DT MOSFET是采用了具有降低表面電場(chǎng)(Reduced Surface) 原理的屏蔽柵(或稱為分立柵)MOSFET技術(shù)(Shield/Split Gate )的Trench MOSFET,從而降低器件的比導(dǎo)通電阻(Rsp)和柵極電荷(Qg)。
Trench MOS優(yōu)化了芯片的元胞設(shè)計(jì)和版圖布局,可以提高器件各個(gè)方向的電流均勻性,有效防止在極限工作下部分區(qū)域的提前失效,增強(qiáng)了產(chǎn)品功率密度和可靠性